幸运的是，中科院真的传来了“喜报”。据悉，中科院已经成功“触碰”到了5nm光刻技术，突破了当初的瓶颈。光刻机，是芯片制造的核心设备。一直以来，中国要想拥有高端的光刻机，就必须依靠进口。

当初，我国最先进的光刻机技术只有一个90nm光刻机，和美国、荷兰等国家完全不可比拟。此前，世界上最先进的5nm光刻机技术产自荷兰的阿斯麦，这是全球最大的半导体设备制造商。中芯国际曾想要购买其光刻机，但是因为价格太高，达到了上亿欧元，且美国一直试图阻挠，最终只能放弃。

但是如今，中科院已经“摸”到了5nm光刻技术的门槛，虽然还没有完全掌握，可既然能取得初步成功，就证明“中国芯”不是我们的痴心妄想，它能成为“未来”。

况且，之前也有报道称，在中科院院士和北大教授带领下，碳基半导体材料的制备技术也有了新的突破。相较市面上的硅基芯片，碳基芯片性能更好。只要这项制备技术成熟，那国产的碳基芯片将会成为国际上最“亮眼”的存在。因为没有哪个国家进行过这方面的研究，只有中国。

5nm的光刻技术，再加上碳基芯片的“加持”，中国很有可能会创造出一次奇迹。到那时，“中国芯”将会一举“冲破”重重枷锁，实现技术反超。到那个时候，美国的芯片禁令不会再对华为造成影响，而不受美国制裁困扰的华为或许就能摆脱现在的困境。

有人觉得这是谣传，中国再努力，也不可能创造最先进的芯片，毕竟起步太晚。是，中国在科技领域确实与他们有10年的差距，但是当初欧洲科学家声称“给中国人全套图纸，都做不出来一台光刻机”，最后我们不也拥有了自己的光刻机吗？

虽然突破5nm光刻技术不代表我们一定能成功，碳基芯片也确实还没有真的成功，但是我们突破了所谓的“技术封锁”，这就是成长，是黑暗中的“微光”。道阻且长，但谁会放弃？ ---摘自麒麟说财经